化学機械平坦化市場規模は2037年までに105億米ドルを超える SDKI Analyticsのリサーチアナリストが調査

SDKI Inc.

2024.12.24 17:39

世界の化学機械平坦化市場規模、シェアおよび傾向分析調査レポート 2025-2037年-装置別、アプリケーション別、および地域別のセグメンテーション

東京都渋谷区、2024年12月22日:SDKI Analyticsはこのほど、「化学機械平坦化市場に関する調査レポート : 予測2025―2037年」を発行しました。調査レポートは、化学機械平坦化市場の成長に貢献する統計的および分析的アプローチに焦点を当てています。当社の読者は、現在の市場シナリオに関する明確なイメージを得るとともに、詳細な調査レポートで提供される主要な業界の洞察から将来の傾向についても理解します。化学機械平坦化に関するこの調査レポートは、一次調査方法と二次調査方法の両方を利用して、市場の成長に伴う現在および将来の市場動向を分析します。

市場の定義:

化学機械平坦化 (CMP) は、半導体製造においてウェーハを研磨や平坦化するために不可欠なプロセスです。それは、化学的手段と機械的手段の両方を使用してウェーハを研磨して細分化し、不要な材料を除去してウェーハ構造を滑らかにします。これは、ウェーハ上に存在する材料と反応する化学物質を含む研磨パッドとスラリーを使用して行われており、さらにパッドが機械的に圧力を加えて、ウェーハに適用可能な表面をさらに滑らかにします。

市場概要:

SDKI Analyticsのアナリストによると、化学機械平坦化市場規模は2024年に約62億米ドルと評価されており、この市場は予測期間中に約4.5%のCAGRで成長し、2037年までに約105億米ドルに達すると予測されています。当社のアナリストは、市場の成長が半導体の進歩によって促進されていることを発見しました。CMP 技術の発展に貢献する要件は数多くありますが、その 1 つは、より高い精度とより小さな半導体ノードに対する要件の増加です。高性能 IC やマイクロチップの製造には超平坦な表面が非常に重要であるため、半導体チップが 7nm 未満の製造技術に移行するにつれて、CMP は非常に重要な要素であることが証明されています。

しかし、化学機械平坦化市場シェアの成長に影響を与える要因は、環境と安全に関する懸念です。CMP を実行するために使用されるスラリーには、環境とそれを扱う人にとって危険であると考えられる化学物質が含まれています。特に廃棄物と危険物を扱う場合の環境制御と管理は厳しく規制されているため、運用コストが高くなり、管理が複雑になります。CMP 材料のメーカーは、コストが高くても、より環境プロファイルの優れた製品を作る必要があることをすでに認識しています。

詳細な市場調査レポートのリンクは次の場所から入手できます:

https://www.sdki.jp/reports/chemical-mechanical-planarization-market/110735

最新ニュース

当社のアナリストは、化学機械平坦化市場の成長における主要企業の最近の動向も観察しました。 これらは:

  • 2024年1月、Applied Materials, Inc. は、最先端の拡張現実(AR)技術でGoogle と提携したことを明らかにしました。
  • 2024年10月、Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. は、SCIVAX Corporationが開発した3Dセンサー用光源「Amtelus」の量産を可能にする材料を開発しました。

化学機械平坦化市場セグメント

当社の化学機械平坦化市場分析によると、市場はアプリケーションに基づいて、化合物半導体、集積回路、MemsとNems、その他に分割されています。これらのうち、集積回路セグメントは予測期間中に成長すると予想されます。半導体集積回路は、エレクトロニクスファウンドリの重要なニーズを満たすバックボーンであり、化学機械平坦化(CMP)市場に影響を与えます。5G、AI、自動車用エレクトロニクスで使用される小型フォームファクター、高密度ICには、必要な厚さの平坦性と表面の滑らかさを提供するために、より洗練されたCMPプロセスが必要です。効果的な平坦化に対するこの要件により、CMP技術の研究と使用が促進されており、半導体開発において高い成果と効率がもたらされます。

サンプル リクエストのリンクは次の場所から入手できます: https://www.sdki.jp/sample-request-110735

化学機械平坦化市場の地域概要

北米における化学機械平坦化の市場規模とシェア分析は、予測期間中に拡大すると予想されます。北米、特に米国は、健全な半導体産業と技術の進歩により、化学機械平坦化 (CMP) 市場にとって強力な地域です。

さらに、日本地域では、国内の家電製と IoT の増加により市場が拡大する可能性があります。

化学機械平坦化市場の主なプレイヤー

化学機械平坦化市場における最も著名なプレーヤーは次のとおりです:

  • KINIK COMPANY
  • Entegris, Inc.
  • Applied Materials, Inc.
  • Lam Research Corporation
  • DuPont de Nemours, Inc.

これに加えて、日本市場のトップ 5 プレーヤーは次のとおりです:

  • SUMCO CORPORATION
  • Tokyo Electron Limited
  • Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
  • Hitachi High-Tech Corporation
  • Okamoto Machine Tool Works, Ltd.

会社概要:

SDKI Analytics の目標は、信頼できる詳細な市場調査と洞察を提供することです。当社は、成長指標、課題、傾向、競争環境に関する詳細な市場レポートの調査と提供に重点を置くだけでなく、最大限の成長と成功に向けてお客様のビジネスを完全に変革することにも重点を置いています。当社の市場調査アナリストは、さまざまな業界や市場分野のあらゆる規模の企業と長年働いてきた経験に基づいています。

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URL: https://www.sdki.jp/

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種類
調査レポート

カテゴリ
エネルギー・環境