市場の定義:

フォトレジスト剥離剤は、基板からフォトレジスト材料を除去するために特別に設計された化学溶液または配合物です。フォトレジストは波長に敏感な材料であり、製造プロセスを通じてパターンを複製するためにシリコン ウェーハやプリント回路基板などの基板に使用されます。 所望のパターンが転写されたら、フォトレジスト剥離剤を使用して残りの感光層を剥がし、表面を追加の処理のために自由にします。

市場の概要:

Research Nesterのアナリストによると、フォトレジスト剥離剤市場は2023年に約464百万米ドルとなり、予測期間を通じて年平均成長率（CAGR）約5％で成長し、2036年には約833百万米ドルに達すると予測されています。フォトレジスト剥離は、ウェハ上のフォトレジスト残渣を完全に除去し、ウェハを清浄に保つため、ウェアラブル技術の普及が市場成長の原動力となっています。フォトレジスト剥離により、ウェハー上のチップ設計が堅牢になり、良質なチップ生産が保証されます。フォトレジスト剥離剤の市場は、スマートウェアラブルを調達する人が増えていることから、予測期間中に成長すると予想されます。例えば、2019～2022年にかけて、相互接続された腕時計の数が大幅に増加しています。この数字は1年前の929百万から2022年には約11億に増加します。

しかし、多くのフォトレジスト剥離剤には有害な化学物質が含まれており、安全性、輸送、取り扱い規制の順守の点で課題が生じています。適切な安全対策が必要なため、製造プロセスはさらに複雑になります。

https://www.researchnester.jp/reports/photoresist-stripper-market/5553

最新ニュース

当社のアナリストは、フォトレジスト剥離剤市場の成長における主要企業の最近の開発の一部も観察しました。 これらは：

• 2023年12月-半導体業界向けに最先端で生産性の高い技術を提供する Axcelis Technologies, Inc.によると、Purion XETM 高エネルギーおよび Purion HTM 高電流インプランターは、DRAM メモリデバイスの生産に使用されるため、韓国と中国の複数の工場に出荷されました。このうち2つのシステムは、中国の新規顧客への浸透と、韓国の既存顧客への後続出荷であります。
• 2021年8月- Sumitomo Chemicalは先端半導体プロセス用フォトレジストの生産能力を増強します。大阪工場に生産ラインを増設し、Dongwoo Fine-Chem Co.の益山工場（韓国）に新工場を建設します。

フォトレジスト剥離剤市場セグメント

製品タイプ - 水系セグメントが最大の成長セグメントで、2036年までに約53%のシェアが見込まれます。

フォトレジスト剥離市場分析によると、市場はエンドユーザー別にメモリー、ファウンドリー、IDM（集積デバイス製造）に分かれます。このうち、市場シェアの大半を占めるのはメモリ分野と推定されます。メモリメーカーは、DRAM（Dynamic Random-Access Memory）やNANDフラッシュメモリなどの半導体メモリデバイスの製造にフォトレジストを広く使用しています。Research Nesterのアナリストの分析によると、2023年第3四半期のDRAM総売上は、今年第2四半期の11430億米ドルに比べ、13480億米ドルに増加しました。データストレージ、モバイル機器、人工知能やIoTのような新興技術など、メモリ集約型アプリケーションの需要増加がメモリセグメントの成長を後押ししています。大容量で高性能なメモリ製造のニーズが、このセグメントの突出した存在感と期待される市場シェアの高さに寄与しています。

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フォトレジスト剥離剤市場の地域概要

アジア太平洋地域は最大の成長地域となり、2036 年までに最大 35% の市場シェアを獲得すると予想されています。

北米のフォトレジスト剥離剤市場シェアは、予測期間にわたってかなりの市場シェアを保持すると推定されています。 3D IC やファンアウト ウェーハレベル パッケージングなどの高度なパッケージング ソリューションに対する需要の高まりにより、半導体製造プロセスにおけるフォトレジスト剥離の利用が促進されています。 また、材料科学とナノテクノロジーにおける継続的な研究開発努力は、新しく改良されたフォトレジスト剥離技術の開発につながり、市場の成長を刺激します。

さらに、アジア太平洋地域内では、日本のフォトレジスト剥離剤市場がかなりの市場シェアを獲得する見込みです。 日本のエレクトロニクスと半導体の技術革新に対する評判により、高度なフォトレジスト剥離剤の必要性が高まっています。 Research Nesterのアナリストの観測によると、2024年末までに日本のエレクトロニクス部門の規模は約440億円に達すると予想されています。より小型でより効率的な電子部品の絶え間ない追求により、革新的な剥離ソリューションの需要が高まり、市場の成長が刺激されています。 また、日本企業は多大なリソースと開発活動を割り当て、カスタマイズされたフォトレジスト剥離剤の開発を促進しています。 このイノベーションへの取り組みにより、市場は常にダイナミックであり、進化する半導体製造要件に適応することが保証されます。

フォトレジスト剥離剤市場の主要プレーヤー

フォトレジスト剥離剤市場の主要プレーヤーの一部は次のとおりです：

• Ashland Inc.
• Air Products and Chemicals, Inc.
• SCREEN Semiconductor Solutions Co., Ltd
• Axcelis Technologies, Inc.
• Merck KGaA

さらに、日本の市場のトップ 5 プレーヤーは次のとおりです：

• FUJIFILM Corporation
• TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
• Kanto Chemical Co., Inc.
• Mitsubishi Gas Chemical Company Inc.
• Sumitomo Chemical Co., Ltd.

会社概要：

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