世界の極端紫外線リソグラフィ（EUVL）システム市場は、2022年から2031年までに100億米ドルから750億米ドルまでの収益増加が見込まれ、2023年から2031年の予測期間にかけて年平均成長率（CAGR）が25.1％で成長すると予測されています。

極端紫外線リソグラフィ（EUVL）は、微細なラインを形成し、マイクロチップやマイクロプロセッサーを開発するための次世代リソグラフィ（NGL）技術の代表的なものの一つです。この技術は、微細回路の形成に利用されている光リソグラフィに取って代わる可能性があります。EUVLシステムは、回路設計パターンから反射された強い紫外線ビームをシリコンウエハーに照射することで動作します。

【市場を牽引する要因】

電子回路デバイスの小型化と高度化の採用が市場の成長を押し上げています。これにより、トランジスターと電子回路の小型化により、システムの消費電力と密度が増加しています。

プロセスの効率性を向上させるメーカーが市場成長を促進しており、人工知能（AI）がビジネスを可能にし、脅威評価に大きく貢献していることも挙げられます。

5G技術の普及が市場に機会をもたらしており、半導体製造企業は最先端の製造技術を取り入れることに注力しています。

【地域別分析】

北米が最大の市場シェアを占めており、技術進歩や5Gコネクティビティ、人工知能（AI）の需要がマイクロチップの増加に寄与しています。

アジア太平洋地域が収益面で市場を独占すると推定され、多くの半導体主要プレーヤーが存在し、半導体デバイスが広く使用されていることがその背景です。

【セグメンテーションの洞察】

レーザ生成プラズマ（LPP）セグメントが市場を独占し、光源セグメントが最大のシェアを占めています。また、ミラーセグメントも収益面で市場を独占しています。

セグメンテーションの概要

世界の極端紫外線リソグラフィー (euvl) システム市場は、光源、装置、及び地域に焦点を当てて分類されています。

光源別

• レーザー生成プラズマ (LPP)
• 真空スパーク
• ガス放電

装置別

• マスク
• 光源
• ミラー
• その他

地域別

• 北アメリカ
  • アメリカ
  • カナダ
  • メキシコ
• ヨロッパー
  • 西ヨロッパー
    • イギリス
    • ドイツ
    • フランス
    • イタリア
    • スペイン
    • その地の西ヨロッパー
  • 東ヨロッパー
    • ポーランド
    • ロシア
    • その地の東ヨロッパー
• アジア太平洋
  • 中国
  • インド
  • 日本
  • オーストラリアおよびニュージーランド
  • 韓国
  • ASEAN
  • その他のアジア太平洋
• 中東・アフリカ（MEA）
  • サウジアラビア
  • 南アフリカ
  • UAE
  • その他のMEA
• 南アメリカ
  • アルゼンチン
  • ブラジル
  • その他の南アメリカ

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